?產(chǎn)品介紹:
RZ-YYC系列氧氣純化裝置采用特制催化劑,以工業(yè)氧氣為原料氣,通過催化氧化工序脫除H2、CO和烴類;經(jīng)冷卻系統(tǒng)、氣水分離器、吸附干燥脫除H2O、CO2,兩塔交替工作、再生,對原料氣的連續(xù)純化。注:本工藝不能脫除氧氣中的氮、氮等惰性氣體雜質(zhì)。
?產(chǎn)品參數(shù):
■ 處理氣量:1~1500Nm3/h(可根據(jù)用戶需要訂做非標(biāo)設(shè)備)
■ 原料氣要求:工業(yè)氧
■ 工作壓力0.2-0.8MPa可調(diào)
■ (氧氣純化裝置)凈化效能:純化后符合并高于GB/T14599-2008的99.9996%要求,注:本工藝不能脫除氧氣中的氮、氮等惰性氣體雜質(zhì)。
介質(zhì) | 原料氣 | 純化后 | 純化后雜質(zhì) | 備注 |
氧氣 (空分液氧) | ≥99.5% | ≥99.999% | H2、CO2、CH4≤0.5ppm,H2o≤2ppm | 氬、氮不除 |
純氧 | ≥99.99% | ≥99.9996% | H2、CO2、CH4≤0.1ppm,H2o≤1ppm | 氬、氮不除 |
?用途:
該系列氧氣純化裝置適用于需要大量高純氧氣的半導(dǎo)體、光纖、晶體管,顯像管等主要生產(chǎn)部門。
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