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產(chǎn)品中心

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氣體凈化純化設(shè)備

小型氣體凈化機(jī)氣體凈化純化設(shè)備氣體配比設(shè)備變壓吸附制氮裝置氨分解制氫裝置氣體回收系統(tǒng)
高純氧氣純化設(shè)備

?產(chǎn)品介紹:

   RZ-YYC系列氧氣純化裝置采用特制催化劑,以工業(yè)氧氣為原料氣,通過催化氧化工序脫除H2、CO和烴類;經(jīng)冷卻系統(tǒng)、氣水分離器、吸附干燥脫除H2O、CO2,兩塔交替工作、再生,對原料氣的連續(xù)純化。注:本工藝不能脫除氧氣中的氮、氮等惰性氣體雜質(zhì)。


?產(chǎn)品參數(shù):

■ 處理氣量:1~1500Nm3/h(可根據(jù)用戶需要訂做非標(biāo)設(shè)備)

■ 原料氣要求:工業(yè)氧

■ 工作壓力0.2-0.8MPa可調(diào)

■ (氧氣純化裝置)凈化效能:純化后符合并高于GB/T14599-2008的99.9996%要求,注:本工藝不能脫除氧氣中的氮、氮等惰性氣體雜質(zhì)。


       介質(zhì)

原料氣

純化后

                          純化后雜質(zhì)

        備注

       氧氣 

 (空分液氧)

≥99.5%

≥99.999%

     H2、CO2、CH4≤0.5ppm,H2o≤2ppm

     氬、氮不除

       純氧

≥99.99%

≥99.9996%

     H2、CO2、CH4≤0.1ppm,H2o≤1ppm

     氬、氮不除


?用途:

     該系列氧氣純化裝置適用于需要大量高純氧氣的半導(dǎo)體、光纖、晶體管,顯像管等主要生產(chǎn)部門。