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產(chǎn)品中心

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氣體凈化純化設(shè)備

小型氣體凈化機(jī)氣體凈化純化設(shè)備氣體配比設(shè)備變壓吸附制氮裝置氨分解制氫裝置氣體回收系統(tǒng)
超純、高純氫氣純化設(shè)備

超純氫氣純化設(shè)備、電解氫氣純化設(shè)備、PEM電解氫氣純化設(shè)備



?產(chǎn)品介紹:

 ■ QYC系列高純氫氣純化設(shè)備以水電解氫氣為原料氫氣進(jìn)入純化是不是的氣水分離器，分離去游離子水后進(jìn)入脫氧器,在催化劑的作用下，使原料氫中的雜質(zhì)氧100%與氫反應(yīng)生成水汽。脫除雜質(zhì)氧后，經(jīng)氫氣冷卻器和氫氣冷凝器（使用冷卻水）及自動氣水分離器，分離去游離的凝水，然后進(jìn)入分子篩吸附干燥器（I ）去濕，再通過壓力調(diào)節(jié)閥調(diào)定純化工作壓力和通過高效過濾器除塵，獲得純氫產(chǎn)品。氫氣純化設(shè)備干燥部分分為兩塔和三塔流程；三塔流程再生氫氣零排放；

■QGC系列超純氫氣純化設(shè)備：是在QYC系列純化設(shè)備基礎(chǔ)上加貴金屬吸氣劑工藝。在一定溫度下，吸氣劑可深度吸收氫氣中的氮、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等氣體雜質(zhì)，凈化后純度可達(dá)到6N\7N\8N\9N；


?技術(shù)參數(shù):

■ 處理氣量：1~2000Nm3/h(可根據(jù)用戶需要訂做非標(biāo)設(shè)備)

■ 原料氣要求：水電解氫氣（如果是其他氫氣來源、訂購時需說明，工藝不一樣）

■ 工作壓力：0.2-6MPa （可根據(jù)用戶需要訂）

介質(zhì)

原料氣

純化后

                                純化后雜質(zhì)

  備注

H2

≥99.8%

5N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 ≤2ppm;  顆?！?.1μm


H2

≥99.8%

6N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2  ≤1000ppb;顆?！?.003μm


H2

≥99.99%

7N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 ≤100ppb;  顆粒≤0.003μm


H2

≥99.999%

8N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 ≤10ppb;  顆?！?.003μm


H2

≥99.8%

6~8N

O2、H2O、CO2                            ≤10ppb;顆?！?.003μm

不除氮和甲烷

H2

≥99.99%

7~8N

O2、H2O、CO2                            ≤10ppb;  顆粒≤0.003μm

不除氮和甲烷


?用途:  廣泛應(yīng)用于石油化工、電子工業(yè)、電子半導(dǎo)體、冶金工業(yè)、機(jī)械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產(chǎn)業(yè)部門和科學(xué)研究中、生產(chǎn)部門亦可作為熱處理保護(hù)氣體以及精細(xì)有機(jī)合成、航空航天等方面有著廣泛的應(yīng)用。例如本機(jī)已在精密合金熱處理、航天航空、半導(dǎo)體硅材料、硅外延、化合物半導(dǎo)體等的生產(chǎn)中的應(yīng)用，效果都很好。