1.裝置要求：

 工藝要求：

氦氣經(jīng)氦氣凈化機(jī)（RZ-HEC-4D/6N型）后雜質(zhì)含量應(yīng)控制為：

純度：99.9999%

雜質(zhì)含量：O2≤0.2PPm，H2O≤0.2PPm(即露點(diǎn)≤－86℃)，CO+CO2≤0.1PPm，N2≤0.2PPm，S、P的氧化物≤0.1PPm。塵埃粒子數(shù)（≥0.3μm）3-5個(gè)／升。

處理氣量：4M3/h。工作壓力:0.1-0.9MPa

2.適用標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范、應(yīng)用領(lǐng)域

GB/T4844.1~4844.3-1995《超純氦氣》

GB50058《爆炸和火災(zāi)危險(xiǎn)環(huán)境電力裝置設(shè)計(jì)規(guī)范》

GB7251《低壓成套開關(guān)柜》

GB150《鋼制壓力容器》

GB151《鋼制管殼式換熱器》《鋼制壓力容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程》

   本裝置應(yīng)用領(lǐng)域：

       主要用于電子、原子能、光譜分析等行業(yè)的生產(chǎn)和科研工作，尤其適合與氧氮分析儀配套使用。