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氣體凈化純化設(shè)備

小型氣體凈化機氣體凈化純化設(shè)備氣體配比設(shè)備變壓吸附制氮裝置氨分解制氫裝置氣體回收系統(tǒng)
全自動氬氣/氦氣純化設(shè)備

?關(guān)于氬氣/氦氣純化的方法:

 ■第一種

 直接脫氧法。就是使用活性金屬、催化劑與氬氣/氦氣中的氧氣進行反應(yīng),消化掉氬氣/氦氣中的氧氣,從而達到脫氧的目的,經(jīng)過分子篩吸收掉氬氣/氦氣中的水份和二氧化碳,使氬氣/氦氣的含水量小于1 ppm;

■第二種

是采用吸氣劑。在一定溫度下,吸氣劑可吸收氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等氣體經(jīng)吸收處理后,凈化后純度可達到6N\7N\8N\9N,這種工藝生產(chǎn)出來的高純氣體適用于各類儀器儀表適用要求。


?技術(shù)參數(shù):

■ 處理氣量:5~2000Nm3/h(可根據(jù)用戶需要訂做非標(biāo)設(shè)備)

■ 原料氣要求:液氬/液氦或者較好的管道氬/氦均可使用

■ 工作壓力0.2-1.6MPa可調(diào)

     介質(zhì)    

    原料氣    

 純化后

                                          純化后雜質(zhì)                                      

   備注 

Ar/He

≥99.99%

 6N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2≤1ppm;顆?!?.1μm


Ar/He

≥99.999%

 7N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2  、H2≤100ppb;顆?!?.003μm


Ar/He

≥99.9999%

 8N

O2、H2O、CO2、CO、CH4、N2 、H2 ≤10ppb;  顆?!?.003μm


Ar/He

≥99.99%

 6N

O2、H2O、CO2                             ≤1ppm;  顆粒≤0.1μm

不除氮和甲烷

Ar/He

≥99.999%

 7N

O2、H2O、CO2                            ≤100ppb;顆粒≤0.003μm

不除氮和甲烷

Ar/He

≥99.9999%

 8N

O2、H2O、CO2                            ≤10ppb;  顆?!?.003μm

不除氮和甲烷



?用途:

       用于高純氣體充裝站、焊接、不銹鋼制造、冶煉,還用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣、填充氣體、真空檢漏、氣相色譜分析的載氣。

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